Organosilane Downstream Plasma On Ultra Low-k Dielectrics: Comparing Repair With Post Etch Treatment: Organosilane Downstream Plasma On Ultra Low-k Dielectrics:Comparing Repair Wit...

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Bibliographische Detailangaben

Personen und Körperschaften:	Calvo, Jesús, Steinke, Philipp, Wislicenus, Marcus, Gerlich, Lukas, Seidel, Robert, Clauss, Ellen, Uhlig, Benjamin
Titel:	Organosilane Downstream Plasma On Ultra Low-k Dielectrics: Comparing Repair With Post Etch Treatment: Organosilane Downstream Plasma On Ultra Low-k Dielectrics:Comparing Repair With Post Etch Treatment
Format:	E-Book
Sprache:	Englisch
veröffentlicht:	Chemnitz Technische Universität Chemnitz Online-Ausg.. 2016
Gesamtaufnahme:	Organosilane Downstream Plasma On Ultra Low-k Dielectrics: Comparing Repair With Post Etch Treatment; AMC 2015 – Advanced Metallization Conference
Schlagwörter:	Plasma Low-K Dielectrics Repair Etch Low-K-Dielektrikum Dielektrikum Ätzen Konferenzschrift
Quelle:	Qucosa